Verfahren und Vorrichtung zur Herstellung eines Substrats durch die Durchfürung von der Verminderung der Oberflächenspannung

EP1388164 Art A2 11. Februar 2004

Anmelder: LAM RESEARCH CORPORATION 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP1388164
Aktenzeichen
EP02737030
Anmeldetag
17. Mai 2002
Veröffentlichung
11. Februar 2004
Rechtsraum
EP
IPC
H01L21/00
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma
LAM RESEARCH CORPORATION
Land
🇺🇸 USA
🇺🇸 Lam Research

US-amerikanischer Hersteller von Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie mit Sitz in Fremont, Kalifornien, spezialisiert auf Ätz- und Beschichtungssysteme (Deposition) für die Chipproduktion.

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Kanzlei
Dendorfer & Herrmann München, Deutschland

Münchner Kanzlei in unmittelbarer Nähe zu DPMA und Europäischem Patentamt, verbindet akademische Expertise mit rechtlichem und sprachlichem Können. Mitgründer Dr. Franz Herrmann promovierte in Physik an der LMU in Kooperation mit dem Max-Planck-Institut, UC Berkeley und NASA Ames.

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