Lithographischer Projektionsapparat und Reflektoranordnung für die Verwendung in diesem Apparat
EP1389747
Art B1
15. Oktober 2008
Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1389747
- Aktenzeichen
- EP03077572
- Anmeldetag
- 15. August 2003
- Veröffentlichung
- 15. Oktober 2008
- Erteilung
- 15. Oktober 2008
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/20
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- ASML Netherlands B.V.
- Land
- 🇳🇱 Niederlande
🇳🇱
ASML
Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
3.336 Patente in unserer Datenbank
Fachgebiete
Vertreten von
Van den Hooven, Jan
Veldhoven, Niederlande
677
Patente gesamt
18
Fachgebiete
2
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Schwerpunkte
Weitere Vertreter
-
van Westenbrugge, Andries
NoneDen Haag