Verfahren zur Herstellung eines Dicken Films auf Basis von Siliciumdioxid
EP1391491
Art B1
9. April 2008
Anmelder: NISSAN CHEMICAL INDUSTRIES, LIMITED 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1391491
- Aktenzeichen
- EP02724627
- Anmeldetag
- 19. April 2002
- Veröffentlichung
- 9. April 2008
- Erteilung
- 9. April 2008
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- C09D183/02C09D183/04C09D5/25B05D3/02B05D7/24C08G77/08H01L21/312
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- NISSAN CHEMICAL INDUSTRIES, LIMITED
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Nissan Chemical Corporation
Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio, das agrochemische Wirkstoffe, elektronische Materialien sowie Feinchemikalien für die Halbleiterindustrie herstellt. Das Unternehmen wurde 1887 gegründet und hieß bis 2015 Nissan Chemical Industries.
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Vertreten von
Hartz, Nikolai
München, Deutschland
1.442
Patente gesamt
33
Fachgebiete
14
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Schwerpunkte
Weitere Vertreter
-
Hartz, Nikolai F., Dr
NoneMünchen