Verfahren und Apparat zur verbesserten Kontrolle der Stromdichte und Füllung eines Musters in ECD-Reaktoren
EP1391540
Art A3
4. Oktober 2006
Anmelder: Texas Instruments Incorporated 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1391540
- Aktenzeichen
- EP03102471
- Anmeldetag
- 7. August 2003
- Veröffentlichung
- 4. Oktober 2006
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- C25D17/00C25D7/12H01L21/288H01L21/768C25D5/00
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Texas Instruments Incorporated
- Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
Texas Instruments
US-amerikanisches Halbleiterunternehmen mit Sitz in Dallas (Texas). Entwickelt und fertigt analoge und eingebettete Halbleiterprodukte, Prozessoren sowie Schaltkreise für Industrie, Automobil- und Konsumelektronik.
3.600 Patente in unserer Datenbank
Vertreten von
Holt, Michael
Northampton, Großbritannien
1.203
Patente gesamt
19
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