Behebung von Phasenkonflikten in Lithographischen Masken

EP1393129 Art B1 8. Mai 2013

Anmelder: Synopsys, Inc., Synopsys Merger Holdings LLC, Numerical Technologies Inc. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP1393129
Aktenzeichen
EP02737445
Anmeldetag
7. Juni 2002
Veröffentlichung
8. Mai 2013
Erteilung
8. Mai 2013
Rechtsraum
EP
IPC
G03F1/30G03F7/20
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firmen
Synopsys, Inc.
Synopsys Merger Holdings LLC
Numerical Technologies Inc.
Land
🇺🇸 USA

Fachgebiete

Optik & Fototechnik
Vertreten von
Davies, Simon Robert London, Großbritannien
1.092
Patente gesamt
27
Fachgebiete
13
Anmelder-Länder
Schwerpunkte
Software & Datenverarbeitung Nachrichtentechnik & Telekommunikation Akustik, Musik & Datenspeicherung Halbleiter & Elektrische Bauelemente Anzeige-, Signal- & Kontrolltechnik Optik & Fototechnik
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