Sputteringtarget zur Herstellung von Schutzschichten für Optische Platte vom Phasenwechseltyp und Optisches Aufnahmemedium mit Unterzuhilfenahme des Sputteringtargets Hergestellter Entsprechender Schutzschicht
EP1394284
Art A1
3. März 2004
Anmelder: JX Nippon Mining & Metals Corporation, Nippon Mining & Metals Co., Ltd., Nikko Materials Co., Ltd., Nikko Materials Company, Limited 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1394284
- Aktenzeichen
- EP02700587
- Anmeldetag
- 15. Februar 2002
- Veröffentlichung
- 3. März 2004
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- C23C14/34G11B7/24G11B7/26
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- JX Nippon Mining & Metals Corporation
Nippon Mining & Metals Co., Ltd.
Nikko Materials Co., Ltd.
Nikko Materials Company, Limited - Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
JX Nippon Mining & Metals
JX Nippon Mining & Metals Corporation ist ein japanisches Unternehmen der Nichteisenmetallindustrie, das Kupfer, Halbleitermaterialien und Metallverarbeitung herstellt, Teil der ENEOS-Gruppe.
1.069 Patente in unserer Datenbank
Vertreten von
Hoarton, Lloyd Douglas Charles
München, Deutschland
1.651
Patente gesamt
34
Fachgebiete
27
Anmelder-Länder
Schwerpunkte
Weitere Vertreter
-
Meddle, Alan Leonard
NoneMünchen