Lithographischer Apparat, Methode zur Herstellung einer Vorrichtung und damit hergestellte Vorrichtung
EP1394611
Art A1
3. März 2004
Anmelder: ASML Netherlands BV 🇳🇱
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1394611
- Aktenzeichen
- EP02256036
- Anmeldetag
- 30. August 2002
- Veröffentlichung
- 3. März 2004
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/20
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- ASML Netherlands BV
- Land
- 🇳🇱 Niederlande
🇳🇱
ASML Netherlands
ASML Netherlands B.V. ist die niederländische Kernsparte des weltweit führenden Herstellers von Lithografiesystemen für die Halbleiterfertigung mit Sitz in Veldhoven. Das Patentportfolio konzentriert sich sehr stark auf Optik und Fototechnik, ergänzt um Elektronik, elektrische Energietechnik und Halbleiterbauelemente. Anmeldungen reichen von 2000 bis 2020.
390 Patente in unserer Datenbank
Fachgebiete
Vertreten von
Leeming, John Gerard
London, Großbritannien
2.212
Patente gesamt
31
Fachgebiete
20
Anmelder-Länder
Schwerpunkte