Dünnfilmausdehnungsvorrichtungsreinigungsverfahren

EP1394842 Art B1 27. August 2008

Anmelder: TOKYO ELECTRON LIMITED 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP1394842
Aktenzeichen
EP02700635
Anmeldetag
20. Februar 2002
Veröffentlichung
27. August 2008
Erteilung
27. August 2008
Rechtsraum
EP
IPC
H01L21/205H01L21/3065C23C16/44
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma
TOKYO ELECTRON LIMITED
Land
🇯🇵 Japan
🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

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