Membran für Mikroelektromekanischen Schalter und Verfahren zu dessen Herstellung und Verwendung
EP1395516
Art B1
25. Oktober 2006
Anmelder: RAYTHEON COMPANY, Raytheon Company 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1395516
- Aktenzeichen
- EP02734428
- Anmeldetag
- 14. Mai 2002
- Veröffentlichung
- 25. Oktober 2006
- Erteilung
- 25. Oktober 2006
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- B81B3/00H01H1/00
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- RAYTHEON COMPANY
Raytheon Company - Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
Raytheon Company
US-amerikanisches Rüstungs- und Technologieunternehmen mit Sitz in Massachusetts, heute Teil von RTX Corporation. Entwickelt Verteidigungssysteme, Radartechnik, Flugabwehr, Sensorik und Luftfahrtelektronik.
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Lawrence, John
Birmingham, Großbritannien
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