Dram-Zellenanordnung mit Vertikalen Mos-Transistoren und Verfahren zu deren Herstellung

EP1396026 Art A2 10. März 2004

Anmelder: Infineon Technologies AG 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP1396026
Aktenzeichen
EP02740639
Anmeldetag
23. Mai 2002
Veröffentlichung
10. März 2004
Rechtsraum
EP
IPC
H01L27/108H01L21/8242
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma
Infineon Technologies AG
Land
🇩🇪 Deutschland
🇩🇪 Infineon Technologies

Deutscher Halbleiterkonzern mit Sitz in Neubiberg bei München, hervorgegangen aus Siemens. Entwickelt und fertigt Halbleiter und Systemlösungen für Automobil-, Industrie- und Sicherheitsanwendungen.

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