System zur Fokusmessung eines Retikels und Verfahren unter Verwendung von verschiedenen interferometrischen Strahlen
EP1396757
Art A3
17. Dezember 2008
Anmelder: ASML Holding N.V., ASML Holding, N.V. 🇳🇱
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1396757
- Aktenzeichen
- EP03019984
- Anmeldetag
- 3. September 2003
- Veröffentlichung
- 17. Dezember 2008
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/20
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- ASML Holding N.V.
ASML Holding, N.V. - Land
- 🇳🇱 Niederlande
🇳🇱
ASML
Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
5.380 Patente in unserer Datenbank
Fachgebiete
Vertreten von
Van den Hooven, Jan
Veldhoven, Niederlande
677
Patente gesamt
18
Fachgebiete
2
Anmelder-Länder
Schwerpunkte
Weitere Vertreter
-
Grünecker, Kinkeldey, Stockmair & Schwanhäusser Anwaltssozietät
Grünecker, Kinkeldey, Stockmair & Schwanhäusser Anwaltssozietät · München