Grabenkondensator und Entsprechendes Herstellungsverfahren
EP1399971
Art A2
24. März 2004
Anmelder: Infineon Technologies AG 🇩🇪
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1399971
- Aktenzeichen
- EP02747382
- Anmeldetag
- 12. Juni 2002
- Veröffentlichung
- 24. März 2004
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01L27/108H01L29/06H01L27/105
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Infineon Technologies AG
- Land
- 🇩🇪 Deutschland
🇩🇪
Infineon Technologies
Deutscher Halbleiterkonzern mit Sitz in Neubiberg bei München, hervorgegangen aus Siemens. Entwickelt und fertigt Halbleiter und Systemlösungen für Automobil-, Industrie- und Sicherheitsanwendungen.
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Vertreten von
Barth, Stephan Manuel
München, Deutschland
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