Verfahren und Vorrichtung zur Reinigung von Luft
Anmelder: Nichias Co., Ltd., TOKYO ELECTRON LIMITED, Taisei Corporation 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1400761
- Aktenzeichen
- EP02741307
- Anmeldetag
- 26. Juni 2002
- Veröffentlichung
- 12. Mai 2010
- Erteilung
- 12. Mai 2010
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- F24F7/06F24F3/14B01D53/75
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- Nichias Co., Ltd.
TOKYO ELECTRON LIMITED
Taisei Corporation - Land
- 🇯🇵 Japan
Nichias ist ein japanischer Hersteller von Dämm-, Dichtungs- und Industriematerialien mit Sitz in Tokio. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Maschinenelemente und Fluidtechnik sowie anorganische Chemie und Werkstoffe, ergänzt durch Energie- und Antriebstechnik. Anmeldungen laufen durchgehend seit 2000.
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Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.
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