Strahlungsquelle, Lithographiegerät und Methode zur Herstellung von Bauelementen
EP1401248
Art B1
25. Juli 2012
Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1401248
- Aktenzeichen
- EP03255825
- Anmeldetag
- 17. September 2003
- Veröffentlichung
- 25. Juli 2012
- Erteilung
- 25. Juli 2012
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H05G2/00G03F7/20F28D15/04F28D15/02F28D15/06
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- ASML Netherlands B.V.
- Land
- 🇳🇱 Niederlande
🇳🇱
ASML
Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
3.336 Patente in unserer Datenbank
Vertreten von
Slenders, Petrus Johannes Waltherus
Eindhoven, Niederlande
244
Patente gesamt
17
Fachgebiete
2
Anmelder-Länder
Schwerpunkte
Weitere Vertreter
-
Slenders, Petrus J. W
NoneEindhoven
-
Van den Hooven, Jan
NoneVeldhoven
-
Leeming, John Gerard
NoneLondon