Strukturelle Verstärkung Stark Poröser Dielektrischer Filme mit Niedrigem K durch Ild-Pfeiler

EP1405337 Art B1 20. August 2008

Anmelder: Intel Corporation, INTEL CORPORATION 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP1405337
Aktenzeichen
EP01272464
Anmeldetag
20. November 2001
Veröffentlichung
20. August 2008
Erteilung
20. August 2008
Rechtsraum
EP
IPC
H01L21/316H01L21/3105H01L21/768
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen
Intel Corporation
INTEL CORPORATION
Land
🇺🇸 USA
🇺🇸 Intel

US-amerikanischer Halbleiterhersteller mit Sitz in Kalifornien. Entwickelt und produziert Prozessoren, Chipsätze sowie weitere Halbleiterkomponenten für Computer, Server und eingebettete Systeme.

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