Verfahren und Vorrichtung zur Gasreinigung mittels kombinierter Anwendung von Plasmabehandlung und Filtration

EP1405663 Art B1 21. Juli 2010

Anmelder: Kabushiki Kaisha Toshiba, KABUSHIKI KAISHA TOSHIBA 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP1405663
Aktenzeichen
EP03022504
Anmeldetag
2. Oktober 2003
Veröffentlichung
21. Juli 2010
Erteilung
21. Juli 2010
Rechtsraum
EP
IPC
B01D53/32F01N3/01B01J19/08
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firmen
Kabushiki Kaisha Toshiba
KABUSHIKI KAISHA TOSHIBA
Land
🇯🇵 Japan
🇯🇵 Toshiba

Japanischer Konzern, der Elektronik, Halbleiter, Energie- und Infrastrukturtechnik sowie Industrieanlagen entwickelt und herstellt.

5.205 Patente in unserer Datenbank

Vertreten von

Noch Fragen?

Wir helfen Ihnen gerne weiter. Schreiben Sie uns einfach.

Kontakt aufnehmen