Elektrostatisch fixierbare Maske mit geringem mechanischem Stress für die EUV- und Röntgenstrahllithographie
EP1406121
Art A1
7. April 2004
Anmelder: NIKON CORPORATION 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1406121
- Aktenzeichen
- EP02022123
- Anmeldetag
- 2. Oktober 2002
- Veröffentlichung
- 7. April 2004
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F1/14G03F7/20
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- NIKON CORPORATION
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Nikon
Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio. Nikon entwickelt optische Geräte und Präzisionstechnik, darunter Kameras, Objektive, Mikroskope sowie Lithografie- und Messsysteme für die Halbleiterfertigung.
5.286 Patente in unserer Datenbank
Fachgebiete
Vertreten von
Meddle, Alan L
München, Deutschland
97
Patente gesamt
25
Fachgebiete
8
Anmelder-Länder
Schwerpunkte
Weitere Vertreter
-
Meddle, Alan Leonard
NoneMünchen