Hochdichte-Plasmaverfahren zum Abscheiden einer Siliziumnitridschicht

EP1408140 Art A1 14. April 2004

Anmelder: STMicroelectronics S.r.l., STMicroelectronics Srl 🇮🇹

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP1408140
Aktenzeichen
EP02425615
Anmeldetag
11. Oktober 2002
Veröffentlichung
14. April 2004
Rechtsraum
EP
IPC
C23C30/00C23C28/00C23C14/16
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen
STMicroelectronics S.r.l.
STMicroelectronics Srl
Land
🇮🇹 Italien
🇮🇹 STMicroelectronics Italy

Italienische Konzerngesellschaft des schweizerisch-französischen Halbleiterherstellers STMicroelectronics. Entwickelt und fertigt Halbleiterkomponenten für Automobil-, Industrie- und Konsumelektronik.

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