Plasmabehandlung von Porösen Filmen mit Niedriger Dielektrizitätskonstante auf Msq-Basis
EP1410431
Art A1
21. April 2004
Anmelder: Axcelis Technologies, Inc., Chemat Technology, Inc. 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1410431
- Aktenzeichen
- EP02749996
- Anmeldetag
- 15. Juli 2002
- Veröffentlichung
- 21. April 2004
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01L21/312
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- Axcelis Technologies, Inc.
Chemat Technology, Inc. - Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
Axcelis Technologies
Axcelis Technologies, Inc. ist ein US-amerikanischer Hersteller von Ionenimplantationsanlagen für die Halbleiterfertigung mit Sitz in Beverly, Massachusetts. Das Patentportfolio ist fast vollständig auf Halbleiter und elektrische Bauelemente konzentriert, ergänzt um Oberflächentechnik und Mess- und Prüftechnik. Das Unternehmen meldet durchgehend seit 2000 an.
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Jacob, Reuben Ellis
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Burke, Steven David
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