Verfahren zur Reinigung durch Entfernung von Teilchen von Oberflächen, Reinigungsvorrichtung und lithographischer Projektionsapparat
EP1411388
Art B1
20. Dezember 2006
Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1411388
- Aktenzeichen
- EP03255649
- Anmeldetag
- 10. September 2003
- Veröffentlichung
- 20. Dezember 2006
- Erteilung
- 20. Dezember 2006
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F1/00G03F7/20B08B7/00
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- ASML Netherlands B.V.
- Land
- 🇳🇱 Niederlande
🇳🇱
ASML
Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
3.336 Patente in unserer Datenbank
Fachgebiete
Vertreten von
Leeming, John Gerard
London, Großbritannien
2.212
Patente gesamt
31
Fachgebiete
20
Anmelder-Länder
Schwerpunkte