Verfahren und Vorrichtung zur Kühlung eines Retikels während einer lithographischen Belichtung
EP1411391
Art A3
12. Oktober 2005
Anmelder: ASML Holding N.V. 🇳🇱
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1411391
- Aktenzeichen
- EP03023662
- Anmeldetag
- 17. Oktober 2003
- Veröffentlichung
- 12. Oktober 2005
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/20
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- ASML Holding N.V.
- Land
- 🇳🇱 Niederlande
🇳🇱
ASML
Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
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Fachgebiete
Vertreten von
Van den Hooven, Jan
Veldhoven, Niederlande
677
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Fachgebiete
2
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Weitere Vertreter
-
Grünecker, Kinkeldey, Stockmair & Schwanhäusser Anwaltssozietät
Grünecker, Kinkeldey, Stockmair & Schwanhäusser Anwaltssozietät · München