Damaszen-Fotomaske für die Extrem-Ultraviolett-Lithographie (euvl) und Herstellungsverfahren
EP1412817
Art B1
9. Juni 2010
Anmelder: Intel Corporation, INTEL CORPORATION 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1412817
- Aktenzeichen
- EP02742415
- Anmeldetag
- 11. Juli 2002
- Veröffentlichung
- 9. Juni 2010
- Erteilung
- 9. Juni 2010
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F1/00
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- Intel Corporation
INTEL CORPORATION - Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
Intel
US-amerikanischer Halbleiterhersteller mit Sitz in Kalifornien. Entwickelt und produziert Prozessoren, Chipsätze sowie weitere Halbleiterkomponenten für Computer, Server und eingebettete Systeme.
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Kanzlei
Boehmert & Boehmert
München, Deutschland
Boehmert & Boehmert geht auf die Zulassung von Dr. Karl Boehmert 1931 in Berlin zurück. Mit Standorten in Deutschland, Alicante, Paris und Shanghai bietet die Kanzlei IP aus einer Hand und legt besonderen Wert auf persönliche Mandantenbetreuung statt Anonymität.
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Goddar, Heinz J., Dr
NoneMünchen