Verfahren zum Verringern der Oberflächenrugosität

EP1412972 Art A2 28. April 2004

Anmelder: S.O.I.Tec Silicon on Insulator Technologies 🇫🇷

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP1412972
Aktenzeichen
EP02782466
Anmeldetag
4. Juli 2002
Veröffentlichung
28. April 2004
Rechtsraum
EP
IPC
H01L21/324H01L21/306H01L21/762H01L21/302H01L21/316
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma
S.O.I.Tec Silicon on Insulator Technologies
Land
🇫🇷 Frankreich
🇫🇷 S.O.I.Tec Silicon on Insulator Technologies

S.O.I.Tec Silicon on Insulator Technologies war ein französischer Hersteller von Silizium-auf-Isolator-Wafern für die Halbleiterindustrie, das heutige Unternehmen firmiert als Soitec. Der Patentbestand konzentriert sich fast ausschließlich auf Halbleiterbauelemente und Waferbondverfahren.

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