Bordotierte Titannitridschicht für Halbleiter mit Grossem Aspektverhältnis

EP1412976 Art B1 2. November 2011

Anmelder: Micron Technology, Inc., MICRON TECHNOLOGY, INC. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP1412976
Aktenzeichen
EP02765900
Anmeldetag
30. Juli 2002
Veröffentlichung
2. November 2011
Erteilung
2. November 2011
Rechtsraum
EP
IPC
H01L21/768H01L23/532
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen
Micron Technology, Inc.
MICRON TECHNOLOGY, INC.
Land
🇺🇸 USA
🇺🇸 Micron Technology

US-amerikanisches Halbleiterunternehmen mit Sitz in Boise, Idaho. Micron entwickelt und fertigt Speicherchips wie DRAM und NAND-Flash sowie Speicherlösungen für Computer, Mobilgeräte, Rechenzentren und Automobile.

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Kanzlei
Carpmaels & Ransford LLP

Carpmaels & Ransford gehört zu den ältesten IP-Kanzleien überhaupt und geht auf eine 1776 gegründete Patentagentur zurück. Von London, München und Dublin aus führt sie als eine der wenigen Häuser Parallelverfahren vor EPA, UPC und britischen Gerichten aus einem Team.

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