Zusammensetzung mit einer Strahlungsempfindlich Veränderbaren Permitivität und Verfahren zur Ausbildung eines Permitivitätsmusters

EP1413924 Art A1 28. April 2004

Anmelder: JSR Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP1413924
Aktenzeichen
EP02755662
Anmeldetag
25. Juli 2002
Veröffentlichung
28. April 2004
Rechtsraum
EP
IPC
G03F7/004G03F7/36C08L101/00H01L21/312H01L23/12G03F7/00G03F7/075
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma
JSR Corporation
Land
🇯🇵 Japan
🇯🇵 JSR Corporation

JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik
Vertreten von
Leson, Thomas Johannes Alois, Dipl.-Ing München, Deutschland
4.590
Patente gesamt
34
Fachgebiete
21
Anmelder-Länder
Schwerpunkte
Energie- & Antriebstechnik (Kraftmaschinen) Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik Fahrzeugtechnik (Automobil, Bahn & Schiff) Nachrichtentechnik & Telekommunikation
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