Intrisische Doppelbrechungskompensation zur Optischen Lithographie im Wellenlängenbereich von unter 200 Nanometern für Komponenten mit Kubischen Kristallstrukturen

EP1417530 Art A1 12. Mai 2004

Anmelder: Corning Incorporated, CORNING INCORPORATED 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP1417530
Aktenzeichen
EP02750066
Anmeldetag
16. Juli 2002
Veröffentlichung
12. Mai 2004
Rechtsraum
EP
IPC
G02B27/14G02F1/07G02F1/1333G01J4/00G01R33/02H01J40/14G01L1/24
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firmen
Corning Incorporated
CORNING INCORPORATED
Land
🇺🇸 USA
🇺🇸 Corning

US-amerikanischer Technologiekonzern mit Sitz in Corning, New York. Corning ist spezialisiert auf Spezialglas, Keramik und optische Fasern für Displays, Telekommunikation, Automobiltechnik, Life Sciences und Umwelttechnik.

8.517 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik
Vertreten von
Charles, Glyndwr München, Deutschland
563
Patente gesamt
28
Fachgebiete
7
Anmelder-Länder
Schwerpunkte
Nachrichtentechnik & Telekommunikation Software & Datenverarbeitung Halbleiter & Elektrische Bauelemente Elektronik & Schaltungstechnik Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Akustik, Musik & Datenspeicherung
Zum Anwaltsprofil
Weitere Vertreter

Noch Fragen?

Wir helfen Ihnen gerne weiter. Schreiben Sie uns einfach.

Kontakt aufnehmen