Verfahren zur Erzeugung eines Musters auf einem Halbleiter mittels einer Reflexionsmaske
EP1421444
Art A2
26. Mai 2004
Anmelder: Freescale Semiconductor, Inc., Motorola, Inc. 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1421444
- Aktenzeichen
- EP02756922
- Anmeldetag
- 2. August 2002
- Veröffentlichung
- 26. Mai 2004
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F1/14
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- Freescale Semiconductor, Inc.
Motorola, Inc. - Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
Freescale Semiconductor
Ehemaliger US-amerikanischer Halbleiterhersteller, hervorgegangen aus einem Spin-off von Motorola, mit Schwerpunkt auf Mikrocontrollern und eingebetteten Prozessoren. Seit 2015 Teil von NXP Semiconductors.
2.392 Patente in unserer Datenbank
🇺🇸
Motorola
US-amerikanisches Technologieunternehmen mit historischem Sitz in Schaumburg, Illinois. Motorola war ein bedeutender Hersteller von Mobilfunkgeräten, Halbleitern und Kommunikationstechnik, bevor es in mehrere Nachfolgegesellschaften wie Motorola Solutions und Motorola Mobility aufgeteilt wurde.
3.541 Patente in unserer Datenbank
Fachgebiete
Vertreten von
Wray, Antony John
Basingstoke, Großbritannien
604
Patente gesamt
24
Fachgebiete
10
Anmelder-Länder
Schwerpunkte
Weitere Vertreter
-
Wharmby, Martin Angus
NoneGif-sur-Yvette
-
McCormack, Derek James
NoneBasingstoke