Gerät und Verfahren zum Herstellen einer Halbleitervorrichtung und Verfahren zum Reinigen eines Halbleiterherstellungsgerätes

EP1422747 Art B1 20. April 2011

Anmelder: Kabushiki Kaisha Toshiba 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP1422747
Aktenzeichen
EP02746087
Anmeldetag
16. Juli 2002
Veröffentlichung
20. April 2011
Erteilung
20. April 2011
Rechtsraum
EP
IPC
H01L21/205C23C16/44C23C16/52H01L21/31
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma
Kabushiki Kaisha Toshiba
Land
🇯🇵 Japan
🇯🇵 Toshiba

Japanischer Konzern, der Elektronik, Halbleiter, Energie- und Infrastrukturtechnik sowie Industrieanlagen entwickelt und herstellt.

13.649 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

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