Methode zur Erzeugung eines optischen Elements, lithographischer Apparat sowie Methode zur Herstellung eines Geräts
EP1426821
Art B1
18. Oktober 2017
Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1426821
- Aktenzeichen
- EP03257400
- Anmeldetag
- 24. November 2003
- Veröffentlichung
- 18. Oktober 2017
- Erteilung
- 18. Oktober 2017
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F1/24G21K1/06G03F7/00
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- ASML Netherlands B.V.
- Land
- 🇳🇱 Niederlande
🇳🇱
ASML
Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
3.336 Patente in unserer Datenbank
Fachgebiete
Vertreten von
Slenders, Petrus Johannes Waltherus
Eindhoven, Niederlande
244
Patente gesamt
17
Fachgebiete
2
Anmelder-Länder
Schwerpunkte
Weitere Vertreter
-
Slenders, Petrus J. W
NoneEindhoven
-
Van den Hooven, Jan
NoneVeldhoven
-
Leeming, John Gerard
NoneLondon