Lithographischer Apparat, Verfahren zur Herstellung eines Artikels und damit hergestellter Artikel
EP1426827
Art A1
9. Juni 2004
Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1426827
- Aktenzeichen
- EP03078854
- Anmeldetag
- 4. Dezember 2003
- Veröffentlichung
- 9. Juni 2004
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/20G01J1/58G01T1/20H01L31/00
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- ASML Netherlands B.V.
- Land
- 🇳🇱 Niederlande
🇳🇱
ASML
Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
3.336 Patente in unserer Datenbank
Vertreten von
Van den Hooven, Jan
Veldhoven, Niederlande
677
Patente gesamt
18
Fachgebiete
2
Anmelder-Länder
Schwerpunkte
Weitere Vertreter
-
Prins, Adrianus Willem, Mr. Ir
NoneDen Haag