Plasma-Ausheilverfahren für Poröse Materialien mit Niedriger Dielektrizitätskonstante
Anmelder: Axcelis Technologies, Inc., DOW CORNING CORPORATION 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1428253
- Aktenzeichen
- EP02761403
- Anmeldetag
- 16. August 2002
- Veröffentlichung
- 16. Juni 2004
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01L21/316H01L21/312H01L21/3105C01B33/12C23C16/40C23C16/56
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- Axcelis Technologies, Inc.
DOW CORNING CORPORATION - Land
- 🇺🇸 USA
Axcelis Technologies, Inc. ist ein US-amerikanischer Hersteller von Ionenimplantationsanlagen für die Halbleiterfertigung mit Sitz in Beverly, Massachusetts. Das Patentportfolio ist fast vollständig auf Halbleiter und elektrische Bauelemente konzentriert, ergänzt um Oberflächentechnik und Mess- und Prüftechnik. Das Unternehmen meldet durchgehend seit 2000 an.
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US-amerikanischer Hersteller von Silikonen und siliziumbasierten Materialien mit Sitz in Michigan, gegründet 1943 als Joint Venture von Dow Chemical und Corning. Das Unternehmen firmiert heute als Dow Silicones Corporation.
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