Erzeugung von Musterdaten, die von Jeglicher Überlappung oder Übermässiger Trennung von Punktmustern Nebeneinander Frei Sind

EP1429159 Art A1 16. Juni 2004

Anmelder: NLT Technologies, Ltd., NEC LCD Technologies, Ltd., NEC Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP1429159
Aktenzeichen
EP02767890
Anmeldetag
5. September 2002
Veröffentlichung
16. Juni 2004
Rechtsraum
EP
IPC
G02B5/02G02F1/1335G02B5/08G03F1/08
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firmen
NLT Technologies, Ltd.
NEC LCD Technologies, Ltd.
NEC Corporation
Land
🇯🇵 Japan
🇯🇵 NEC

Japanischer Technologiekonzern mit Sitz in Tokio, der IT- und Netzwerklösungen, Telekommunikationsausrüstung sowie Sicherheits- und Biometrietechnik anbietet.

19.509 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Vertreten von

Noch Fragen?

Wir helfen Ihnen gerne weiter. Schreiben Sie uns einfach.

Kontakt aufnehmen