Erzeugung von Musterdaten, die von Jeglicher Überlappung oder Übermässiger Trennung von Punktmustern Nebeneinander Frei Sind
EP1429159
Art A1
16. Juni 2004
Anmelder: NLT Technologies, Ltd., NEC LCD Technologies, Ltd., NEC Corporation 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1429159
- Aktenzeichen
- EP02767890
- Anmeldetag
- 5. September 2002
- Veröffentlichung
- 16. Juni 2004
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G02B5/02G02F1/1335G02B5/08G03F1/08
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- NLT Technologies, Ltd.
NEC LCD Technologies, Ltd.
NEC Corporation - Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
NEC
Japanischer Technologiekonzern mit Sitz in Tokio, der IT- und Netzwerklösungen, Telekommunikationsausrüstung sowie Sicherheits- und Biometrietechnik anbietet.
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