Projektionsobjektiv, insbesondere für die Mikrolithographie, sowie Verfahren zur Abstimmung eines Projektionsobjektives

EP1431826 Art A3 18. Mai 2005

Anmelder: Carl Zeiss SMT AG 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP1431826
Aktenzeichen
EP03027119
Anmeldetag
26. November 2003
Veröffentlichung
18. Mai 2005
Rechtsraum
EP
IPC
G03F7/20G02B13/14G02B13/24
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma
Carl Zeiss SMT AG
Land
🇩🇪 Deutschland
🇩🇪 Carl Zeiss SMT

Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.

1.949 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Vertreten von
Muschik, Thomas Stuttgart, Deutschland
18
Patente gesamt
3
Fachgebiete
1
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