Verfahren zur Reinigung einer Oberfläche einer Komponente eines lithographischen Projektionsaparats, lithographischer Projektionsapparat, Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung und Reinigungssystem
EP1431828
Art A1
23. Juni 2004
Anmelder: ASML Netherlands B.V., Carl Zeiss SMT AG, CARL ZEISS SEMICONDUCTOR MANUFACTURING TECHNOLOGIES AG 🇳🇱
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1431828
- Aktenzeichen
- EP03079145
- Anmeldetag
- 22. Dezember 2003
- Veröffentlichung
- 23. Juni 2004
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/20B08B6/00B08B7/00
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- ASML Netherlands B.V.
Carl Zeiss SMT AG
CARL ZEISS SEMICONDUCTOR MANUFACTURING TECHNOLOGIES AG - Land
- 🇳🇱 Niederlande
🇳🇱
ASML
Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
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Fachgebiete
Vertreten von
Van den Hooven, Jan
Veldhoven, Niederlande
677
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Prins, Adrianus Willem, Mr. Ir
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