Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
EP1434097
Art A3
9. Mai 2007
Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1434097
- Aktenzeichen
- EP03079162
- Anmeldetag
- 23. Dezember 2003
- Veröffentlichung
- 9. Mai 2007
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/20
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- ASML Netherlands B.V.
- Land
- 🇳🇱 Niederlande
🇳🇱
ASML
Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
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Fachgebiete
Vertreten von
Van den Hooven, Jan
Veldhoven, Niederlande
677
Patente gesamt
18
Fachgebiete
2
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Schwerpunkte
Weitere Vertreter
-
Prins, Adrianus Willem, Mr. Ir
NoneDen Haag