Lithographisches Gerät mit Ausrichtungsuntersystem, Verfahren zur Herstellung von Vorrichtungen mittels einer Ausrichtung und Ausrichtungsstruktur
EP1434103
Art A3
15. April 2009
Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1434103
- Aktenzeichen
- EP03079041
- Anmeldetag
- 12. Dezember 2003
- Veröffentlichung
- 15. April 2009
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F9/00
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- ASML Netherlands B.V.
- Land
- 🇳🇱 Niederlande
🇳🇱
ASML
Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
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Fachgebiete
Vertreten von
Van den Hooven, Jan
Veldhoven, Niederlande
677
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van Westenbrugge, Andries
NoneDen Haag