Methoden zur Herstellung eines Transistor-Gates

EP1435649 Art A3 5. Januar 2005

Anmelder: TEXAS INSTRUMENTS INC., Texas Instruments Inc. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP1435649
Aktenzeichen
EP03104979
Anmeldetag
24. Dezember 2003
Veröffentlichung
5. Januar 2005
Rechtsraum
EP
IPC
H01L21/336H01L29/51H01L21/28
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen
TEXAS INSTRUMENTS INC.
Texas Instruments Inc.
Land
🇺🇸 USA
🇺🇸 Texas Instruments

US-amerikanisches Halbleiterunternehmen mit Sitz in Dallas (Texas). Entwickelt und fertigt analoge und eingebettete Halbleiterprodukte, Prozessoren sowie Schaltkreise für Industrie, Automobil- und Konsumelektronik.

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