Plasmareinigungsverfahren
Anmelder: National Institute of Advanced Industrial Science and Technology, Canon Anelva Corporation, ULVAC, INC., Kanto Denka Kogyo Co., Ltd., Sanyo Electric Co., Ltd., Showa Denko K.K., Sony Corporation, DAIKIN INDUSTRIES, LTD., TOKYO ELECTRON LIMITED, Renesas Electronics Corporation, Hitachi Kokusai Electric Inc., Panasonic Corporation, Asahi Glass Company, Limited, NEC Electronics Corporation, Renesas Technology Corp., ANELVA CORPORATION, Kanto Denka Kogyo CO., LTD., Sanyo Electric Co., Ltd, SONY CORPORATION, MATSUSHITA ELECTRIC INDUSTRIAL CO., LTD., Research Institute of Innovative Technology for the Earth 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1437768
- Aktenzeichen
- EP02758871
- Anmeldetag
- 26. August 2002
- Veröffentlichung
- 18. August 2010
- Erteilung
- 18. August 2010
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- C23C16/44B08B7/00H01L21/3065
Abstract
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Anmelder
- Firmen
- National Institute of Advanced Industrial Science and Technology
Canon Anelva Corporation
ULVAC, INC.
Kanto Denka Kogyo Co., Ltd.
Sanyo Electric Co., Ltd.
Showa Denko K.K.
Sony Corporation
DAIKIN INDUSTRIES, LTD.
TOKYO ELECTRON LIMITED
Renesas Electronics Corporation
Hitachi Kokusai Electric Inc.
Panasonic Corporation
Asahi Glass Company, Limited
NEC Electronics Corporation
Renesas Technology Corp.
ANELVA CORPORATION
Kanto Denka Kogyo CO., LTD.
Sanyo Electric Co., Ltd
SONY CORPORATION
MATSUSHITA ELECTRIC INDUSTRIAL CO., LTD.
Research Institute of Innovative Technology for the Earth - Land
- 🇯🇵 Japan
Staatliches japanisches Forschungsinstitut (AIST), das breit angelegte angewandte Forschung in Bereichen wie Materialwissenschaft, Energie, Elektronik und Biotechnologie betreibt.
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