Verfahren und Gerät zur Plasmadotierung durch Pulsieren der Anode
EP1438735
Art B1
1. März 2006
Anmelder: Varian Semiconductor Equipment Associates, Inc. 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1438735
- Aktenzeichen
- EP02782242
- Anmeldetag
- 25. Oktober 2002
- Veröffentlichung
- 1. März 2006
- Erteilung
- 1. März 2006
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01J37/32
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Varian Semiconductor Equipment Associates, Inc.
- Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
Varian Semiconductor Equipment Associates, Inc.
Varian Semiconductor Equipment Associates war ein US-amerikanischer Hersteller von Halbleiteranlagen, seit 2011 Teil von Applied Materials. Die Patente betreffen Ionenimplantation und Halbleiterfertigung.
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Fachgebiete
Kanzlei
Withers & Rogers
München, Deutschland
Withers & Rogers zählt zu Europas größten IP-Kanzleien und ist neben Großbritannien auch in Paris und seit 2019 in München vertreten. Ihre erklärte Aufgabe: Mandanten den oft unübersichtlichen europäischen IP-Schutz verständlich zu machen.
26.507
Patente gesamt
39
Patentanwälte
3
Standorte
Weitere Vertreter
-
Beck, Simon Antony
NoneLondon