Verfahren zum Ätzen von Merkmalen mit Hohem Streckungsverhältnis

EP1439900 Art B1 9. Mai 2012

Anmelder: Tokyo Electron Limited 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP1439900
Aktenzeichen: EP02773707
Anmeldetag: 31. Oktober 2002
Veröffentlichung: 9. Mai 2012
Erteilung: 9. Mai 2012
Rechtsraum: EP
IPC: H01L21/3065H01L21/67

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Tokyo Electron Limited
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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