Lithographischer Apparat mit Spülgassystem
EP1447716
Art A3
5. Januar 2005
Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1447716
- Aktenzeichen
- EP04075434
- Anmeldetag
- 11. Februar 2004
- Veröffentlichung
- 5. Januar 2005
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/20
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- ASML Netherlands B.V.
- Land
- 🇳🇱 Niederlande
🇳🇱
ASML
Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
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Fachgebiete
Vertreten von
Van den Hooven, Jan
Veldhoven, Niederlande
677
Patente gesamt
18
Fachgebiete
2
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Schwerpunkte
Weitere Vertreter
-
van Westenbrugge, Andries
NoneDen Haag