Laserstrahl-Mustergenerator mit Kompensation Rotierender Abtastfehler
EP1449031
Art A2
25. August 2004
Anmelder: Applied Materials, Inc. 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1449031
- Aktenzeichen
- EP02784485
- Anmeldetag
- 15. November 2002
- Veröffentlichung
- 25. August 2004
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/20H04N1/047
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Applied Materials, Inc.
- Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
Applied Materials
US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.
10.780 Patente in unserer Datenbank
Vertreten von
Bayliss, Geoffrey Cyril
London, Großbritannien
655
Patente gesamt
33
Fachgebiete
15
Anmelder-Länder
Schwerpunkte