Strukturen und Verfahren zur Verringerung der Aberration in Optischen Systemen
EP1451619
Art A2
1. September 2004
Anmelder: ASML Netherlands B.V., Optical Research Associates 🇳🇱
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1451619
- Aktenzeichen
- EP02795578
- Anmeldetag
- 30. Oktober 2002
- Veröffentlichung
- 1. September 2004
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G02B13/24G02B27/00G02B5/00G03F7/20G02B5/30
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- ASML Netherlands B.V.
Optical Research Associates - Land
- 🇳🇱 Niederlande
🇳🇱
ASML
Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
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Fachgebiete
Vertreten von
Van den Hooven, Jan
Veldhoven, Niederlande
677
Patente gesamt
18
Fachgebiete
2
Anmelder-Länder
Schwerpunkte
Weitere Vertreter
-
Leeming, John Gerard
NoneLondon
- (deleted)
-
Popp, Eugen, Dr
NoneMünchen