Verfahren und Vorrichtung zur Messung der Oberflächenkontamination eines Teils eines Lithographischen Apparatus
EP1452851
Art A1
1. September 2004
Anmelder: ASML Netherlands B.V., Carl Zeiss SMT AG, CARL ZEISS SEMICONDUCTOR MANUFACTURING TECHNOLOGIES AG 🇳🇱
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1452851
- Aktenzeichen
- EP04075557
- Anmeldetag
- 20. Februar 2004
- Veröffentlichung
- 1. September 2004
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G01N21/15G01M11/00G03F7/20
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- ASML Netherlands B.V.
Carl Zeiss SMT AG
CARL ZEISS SEMICONDUCTOR MANUFACTURING TECHNOLOGIES AG - Land
- 🇳🇱 Niederlande
🇳🇱
ASML
Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
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Van den Hooven, Jan
Veldhoven, Niederlande
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