Gas für eine Plasmareaktion, Prozess zur Herstellung des Gases und Verwendung
EP1453082
Art A1
1. September 2004
Anmelder: Zeon Corporation 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1453082
- Aktenzeichen
- EP02775447
- Anmeldetag
- 31. Oktober 2002
- Veröffentlichung
- 1. September 2004
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01L21/3065H01L21/311
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Zeon Corporation
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Zeon
Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio. Zeon Corporation entwickelt synthetische Kautschuke, Spezialchemikalien und Elastomere für Anwendungen in Automobil-, Elektronik- und Batterieindustrie.
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Albrecht, Thomas
München, Deutschland
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