Gerasterter Strahl, Elektonenstrahl-Schreibstrategie mittels Zweidimensionaler Mehrpixel-Belichtungsfeld

EP1454336 Art A2 8. September 2004

Anmelder: Applied Materials, Inc. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP1454336
Aktenzeichen
EP02734302
Anmeldetag
7. Mai 2002
Veröffentlichung
8. September 2004
Rechtsraum
EP
IPC
H01J37/317H01J37/302
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma
Applied Materials, Inc.
Land
🇺🇸 USA
🇺🇸 Applied Materials

US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.

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