Verfahren zur Benutzung einer Polyreoxidationsschicht als Ätzsperrschicht

EP1456874 Art A1 15. September 2004

Anmelder: ADVANCED MICRO DEVICES, INC., ADVANCED MICRO DEVICES INC. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP1456874
Aktenzeichen
EP02792509
Anmeldetag
19. Dezember 2002
Veröffentlichung
15. September 2004
Rechtsraum
EP
IPC
H01L21/31H01L21/318H01L21/335
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firmen
ADVANCED MICRO DEVICES, INC.
ADVANCED MICRO DEVICES INC.
Land
🇺🇸 USA
🇺🇸 Advanced Micro Devices

US-amerikanischer Halbleiterhersteller (AMD) mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien, bekannt für Prozessoren, Grafikchips und Server-CPUs.

1.708 Patente in unserer Datenbank

Noch Fragen?

Wir helfen Ihnen gerne weiter. Schreiben Sie uns einfach.

Kontakt aufnehmen