Verfahren zur Planarisierung mit Halogenen und Halogeniden der Gruppe Viii Metallenthaltende Oberflächen

EP1458829 Art A1 22. September 2004

Anmelder: Micron Technology, Inc., MICRON TECHNOLOGY, INC. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP1458829
Aktenzeichen
EP02799255
Anmeldetag
17. Dezember 2002
Veröffentlichung
22. September 2004
Rechtsraum
EP
IPC
C09G1/02H01L21/304
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen
Micron Technology, Inc.
MICRON TECHNOLOGY, INC.
Land
🇺🇸 USA
🇺🇸 Micron Technology

US-amerikanisches Halbleiterunternehmen mit Sitz in Boise, Idaho. Micron entwickelt und fertigt Speicherchips wie DRAM und NAND-Flash sowie Speicherlösungen für Computer, Mobilgeräte, Rechenzentren und Automobile.

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