Verfahren zur Erweiterung der Stabilität eines Fotoresists Während des Direkten Schreibens eines Bildes auf den Fotoresist
EP1459131
Art A1
22. September 2004
Anmelder: Applied Materials, Inc. 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1459131
- Aktenzeichen
- EP02804005
- Anmeldetag
- 19. November 2002
- Veröffentlichung
- 22. September 2004
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F1/00G03F7/11
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Applied Materials, Inc.
- Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
Applied Materials
US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.
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Fachgebiete
Vertreten von
Bayliss, Geoffrey Cyril
London, Großbritannien
655
Patente gesamt
33
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15
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