Verfahren zur Optimierung der Abbildungseigenschaften von mindestens Zwei Optischen Elementen sowie Photolithographisches Fertigungsverfahren
EP1459134
Art A1
22. September 2004
Anmelder: Carl Zeiss SMT AG 🇩🇪
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1459134
- Aktenzeichen
- EP02805274
- Anmeldetag
- 2. Oktober 2002
- Veröffentlichung
- 22. September 2004
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/20G02B5/30G02B1/02G02B1/08
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Carl Zeiss SMT AG
- Land
- 🇩🇪 Deutschland
🇩🇪
Carl Zeiss SMT
Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.
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Vertreten von
Schwanhäusser, Gernot
Stuttgart, Deutschland
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